- 机械系统：

- 输出高精度气浮工作台技术（定位精度±0.01μm）；

- 提供精密温控方案（±0.01℃）。

机械系统的精度和稳定性对于光刻机同样至关重要。高精度气浮工作台技术，能够实现晶圆的高精度定位和运动，定位精度达到了±0.01μm，这在当时是非常先进的技术水平。精密温控方案则能够保证光刻机在工作过程中，各个部件的温度稳定在±0.01℃的范围内，避免因温度变化而导致的机械变形和精度下降。

“有了这两项技术，机械系统的问题就能迎刃而解了。”贾东旭对机械系统的研发充满了信心。

- 控制系统：

- 引入基于处理器的运动控制算法；

- 提供自动对准系统（Overlay精度±0.1μm）。

控制系统是光刻机的大脑，负责协调各个部件的工作，实现光刻过程的自动化和高精度控制。基于处理器的运动控制算法，能够快速准确地控制气浮工作台的运动，保证晶圆在光刻过程中的位置精度。自动对准系统则能够实现晶圆与掩膜版的自动对准，Overlay精度达到了±0.1μm，大大提高了光刻的效率和精度。

“这些技术真是太强大了！”贾东旭感叹道，“有了系统的支持，我们离成功又近了一步。”